這次智慧財產權業務座談會共規劃4項專題報告：(1)智慧財產法制修法動態—專利法及著作權法修法重點簡介、(2)專利行政訴訟新趨勢—更正、新證據與課予義務判決、(3)商標圖樣含「十字圖」之審查原則，及(4)專利商標業務小提醒。另安排綜合座談時間，與各界交流智慧財產權議題，歡迎踴躍報名參加。全程參加本座談會，可登錄專利師及專利代理人在職進修時數3小時。

• 發布日期 : 108-05-29
• 發布單位 : 國際事務及綜合企劃組
• 更新日期 : 108-06-03
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