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G 物理
G02 光學（光學元件或儀器之製造見B24B，B29D11/00，C03或其他適宜的次類或類內；材料本身參見有關的分類位置，如C03B，C03C）
G02F 用於控制光之強度、顏色、相位、偏振或方向之器件或裝置，如轉換，選通，調製或解調，上述器件或裝置之光學操作係利用改變器件或裝置之介質之光學性質予以修改者；用於上述操作之技術或工藝；變頻；非線性光學；光學邏輯元件；光學類比／數位轉換器（傳感構件與與測量相關連的指示或記錄部件之間之光學變換裝置見G01D
G02F 1/00控制來自獨立光源之光的強度，顏色，相位，偏振或方向之器件或裝置，如轉換，選通或調製；非線性光學（利用顏色或半透明度變化之溫度計見G01K
G02F 1/01對強度、相位、偏振或顏色之控制（1/29，1/35優先；偏振元件本身見G02B5/30；靜態貯存器本身見G11C；利用快門操作造成如光閥作用之顯像管屏幕見H01J29/12；上述屏幕利用褪色起作用者見H01J29/14）[2,7]
G02F 1/015基於至少有一個電位勢障之半導體元件者，如PN，PIN結（1/03優先）[3]
G02F 1/017具有週期性或準週期性電位變化之結構，例如：超晶格結構、量子井
G02F 1/025於光導設備內者（1/017優先）[5,7]
G02F 1/03基於陶瓷或電－光晶體者，例如：顯示鮑克氏（Pockels）或克爾（Ｋerr）效應者（1/061優先）[2,4,7]
G02F 1/035於光導設備內者
G02F 1/05具有鐵電特性者（1/035，1/055優先）[2,5]
G02F 1/055用陶瓷作活性材料者（1/035優先）[4,5]
G02F 1/061基於電－光有機材料者（1/07優先）[7]
G02F 1/065於光導設備內者
G02F 1/07基於呈現克爾效應之電一光液者
G02F 1/09基於磁一光元件者，如呈現法拉第效應者
G02F 1/095於光導設備內者
G02F 1/11基於聲－光元件者，如利用聲或類似的機械波之可變衍射作用（聲光之偏轉作用見1/33）[3]
G02F 1/125於光導設備內者
G02F 1/13基於液晶者，如單位液晶顯示管（液晶材料見C09K19/00）[2]
G02F 1/133構造上之設備；液晶管之工作；電路裝置（用於控制矩陣中液晶元件並在結構上不與這些元件相連之裝置或電路見G09G3/36）[3,7]
G02F 1/1333構造上之設備（1/135，1/136優先）[5]
G02F 1/1334基於聚合物分散型液1/136優先）
G02F 1/1335光學裝置結構上之組合，如具液晶管之偏振器，反射器 [5]
G02F 1/13357照明裝置
G02F 1/13363雙折射元件，例如：用於光學補償者
G02F 1/1337液晶分子之表面誘導取向，如借助列向層
G02F 1/1339墊圈；隔套；液晶管之密封
G02F 1/1341液晶管之充料或封閉
G02F 1/1343電極
G02F 1/1345將電極與液晶管引線連接之導體
G02F 1/1347液晶層或液晶管排列，其中一個光束之最終狀況由二層或多層或管之效應之疊加而實現
G02F 1/135結構上與一光導層或鐵電層相結合之液晶管，可以由光學方面或電學方面改變其性能者
G02F 1/136結構上與一半導體層或基片相結合的液晶管，如形成積體電路部分之液晶管（1/135優先）[5]
G02F 1/1362主動矩陣定址單元
G02F 1/1365其中開關元件為雙電極裝置
G02F 1/1368其中開關元件為三電極裝置
G02F 1/137用特殊的電－光或磁－光效應予以區分者，如場感應相變，取向效應，賓－主相互作用，動態散射
G02F 1/139基於取向效應的，其中液晶保持透明者
G02F 1/141使用鐵電液晶者
G02F 1/15基於電色效應者 [5,2006.01,2019.01]
G02F 1/1503於有機液態溶液，如二茂鐵溶液中引起之氧化還原反應[2019.01]
G02F 1/1506基於電化學沈積法，如電極沈積一種無機材料於電極之上或其附近處 [2019.01]
G02F 1/1514以電致色變材料為特徵，如以電沈積之材料 [2019.01]
G02F 1/1516包含有機材料 [2019.01]
G02F 1/1523包含無機材料 [2019.01]
G02F 1/1524過渡金屬化合物 [2019.01]
G02F 1/153結構上之佈置
G02F 1/155電極
G02F 1/157結構上與光學裝置相結合者，如具此種管之反射器或照明裝置
G02F 1/161墊圈；隔套；液晶管之密封；液晶管之填充料或封閉
G02F 1/163電色管之運轉；電路佈置
G02F 1/165基於流體中受施加電場影響之粒子平移者[2019.01]
G02F 1/166以電-光或磁-光效應為特徵者[2019.01]
G02F 1/167透過電泳 [5,2006,01,2019.;01]
G02F 1/1671涉及乾調色劑者 [2019.01]
G02F 1/1673以磁電泳者 [2019.01]
G02F 1/1675結構零部件 [2019.01]
G02F 1/16753支撐或安裝元件之結構，如支架或擋板 [2019.01]
G02F 1/16755基材 [2019.01]
G02F 1/16756隔離層 [2019.01]
G02F 1/16757微膠囊 [2019.01]
G02F 1/1676電極 [2019.01]
G02F 1/16761並列式之工作電極與相對應電極 [2019.01]
G02F 1/16762每畫素具三或以上電極者 [2019.01]
G02F 1/16766用於主動式矩陣者[2019.01]
G02F 1/1677結構上與光學裝置相結合者，如反射器或照明裝置 [2019.01]
G02F 1/1679墊圈；隔套；液晶管之密封；液晶管之填充料或封閉 [2019.01]
G02F 1/1681以牆分區之具二個或以上微液晶管者，如微杯式 [2019.01]
G02F 1/1685液晶管之運作；影響全部液晶管之電路裝置 [2019.01]
G02F 1/169基於具共同光學特徵之可定向非球形顆粒體懸浮微粒者，如反射的金屬薄片 [2019.01]
G02F 1/17基於未包含於1/015 - 1/169之可變的吸收元件者 [2,5,2006.01,2019.01]
G02F 1/19基於未包含於1/015 - 1/169之可變的反射或折射元件者 [2,5,2006.01,2019.01]
G02F 1/21應用干涉作用者
G02F 1/225於光導裝置內者
G02F 1/23顏色之控制（1/03至1/21優先）[2]
G02F 1/25對色調或主波長
G02F 1/29光束之位置或方向之控制，即偏轉（用電或磁記入或光學讀出的靜態存儲器見G11C；具有用以改變雷射輻射發射之位置與方向之裝置見H01S
G02F 1/295於光導裝置內者（1/313，1/335優先）[5]
G02F 1/31數位偏轉裝置（1/33優先）[2]
G02F 1/313於光導裝置內者
G02F 1/315基於採用受控全內反射者
G02F 1/33聲一光偏轉器件
G02F 1/335有一光導裝置者
G02F 1/35非線性光學（光學雙穩態裝置見3/02；所用受激布里淵或拉曼效應之雷射器見H01S
G02F 1/355以所用材料為特徵者
G02F 1/361有機材料
G02F 1/365在光導結構中者（1/377優先）[7]
G02F 1/37用於二次諧波產生者
G02F 1/377在光波導結構中者
G02F 1/383光纖型式者
G02F 1/39用於可見光，紅外光或紫外光波之參數產生或放大者（電參量放大器見H03F 7/00）[2]
G02F 2/00光之解調；受調變光調變之變換；光之變頻（1/35優先；光電探測或測量裝置見G01J；H01J 40/00；H01L 31/00；解調雷射裝置見H01S 3/10；一般受調變電磁波調變之解調或變換見H03D 9/00）[2]
G02F 2/02光之變頻，如應用量子計數器者（發光材料見C09K 11/00）[2]
G02F 3/00光學邏輯元件（採用光－電子裝置作活性器件之電脈波發生器見H03K 3/42；用光電子器件之邏輯電路見H03K 19/14）；光學雙穩態裝置 [5]
G02F 3/02光雙穩態裝置 [5]
G02F 7/00光學類比／數位轉換器
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