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C 化學;冶金;組合化學
C01 無機化學(準備用於生產陶瓷產品的無機化合物粉末的加工見C04B35/00;製備元素或二氧化碳以外無機化合物之發酵或用酶工藝見C12P3/00;用混合物,如礦石,製取用於提煉游離金屬之冶金工藝中間化合物見C21B,C22B;用電解法或電泳法生產非金屬元素或無機化合物見C25B)
C01B 非金屬元素;其化合物
C01B 3/00氫;含氫混合氣;由含氫混合氣中分離氫(用物理方法分離氣體見B01D);氫之淨化(用固體碳質物料生產水煤氣或合成氣見C10J;含一氧化碳之可燃氣化學組合物之淨化或改性見C10K)[3]
C01B 3/02氫或含氫混合氣之生產 [3]
C01B 3/04用無機化合物,如氨之分解法[3]
C01B 3/06用含正電性氫之無機化合物,如水、酸、鹼、氨與無機還原劑之反應(用電解水法見C25B1/04)[3]
C01B 3/08與金屬 [3]
C01B 3/10用水蒸汽與金屬之反應 [3]
C01B 3/12用水蒸汽與一氧化碳之反應[3]
C01B 3/14用熱及蒸汽處理 [3]
C01B 3/16使用催化劑 [3]
C01B 3/18使用移動固體顆粒 [3]
C01B 3/20用金屬氫氧化物與一氧化碳之反應 [3]
C01B 3/22用氣態或液態有機化合物之分解(液態碳質物料之焦化見C10B55/00)[3]
C01B 3/24烴類者 [3]
C01B 3/26使用催化劑 [3]
C01B 3/28使用移動固體顆粒 [3]
C01B 3/30使用流化床技術 [3]
C01B 3/32用氣態或液態之有機化合物與氣化劑,如水、二氧化碳、空氣之反應 [3]
C01B 3/34用烴類與氣化劑之反應 [3]
C01B 3/36使用氧或含氧混合物作氣化劑 [3]
C01B 3/38使用催化劑 [3]
C01B 3/40以催化劑為特徵者 [3]
C01B 3/42使用移動固體顆粒 [3]
C01B 3/44使用流化床技術 [3]
C01B 3/46使用間斷預熱之非移動固體物料,如鼓風及轉動 [3]
C01B 3/48隨後有水蒸氣與一氧化碳反應者 [3]
C01B 3/50氫或含氫氣體由混合氣體中之分離,如淨化(3/14優先)[3]
C01B 3/52用與液體接觸法;所用液體之再生 [3]
C01B 3/54包含催化反應 [3]
C01B 3/56用固體接觸法;所用固體之再生 [3]
C01B 3/58包含催化反應 [3]
C01B 4/00氫同位素;用同位素交換法製備氫同位素之無機化合物,如NH3+D2→NH2D+HD(同位素之分離見B01D59/00;生成氫同位素化合物之其他化學反應見C01主類有關氫化合物之各目)[2]
C01B 5/00
C01B 5/02重水;同氫同位素或其化合物之化學反應製備,如4ND3+7O2→4NO2+6D2O,2D2+O2→2D2O
C01B 6/00金屬氫化物;甲硼烷或乙硼烷;其加成錯合物(硼之高級氫化物,硼之取代氫化物見35/00)[2]
C01B 6/02過渡元素之氫化物;其加成錯合物
C01B 6/04鹹金屬、鹼土金屬、鈹或鎂之氫化物;其加成錯合物
C01B 6/06鋁、鎵、銦、鉈、鍺、錫、鉛、砷、銻、鉍或釙之氫化物;甲硼烷;乙硼烷;其加成錯合物
C01B 6/10甲硼烷;乙硼烷;其加成錯合物 [2]
C01B 6/11用硼或含硼及氧之無機化合物製備 [2]
C01B 6/13甲硼烷或乙硼烷之加成錯合物,如與膦、胂或者肼 [2]
C01B 6/15金屬氫硼化物;其加成錯合物 [2]
C01B 6/17用硼或含硼及氧之無機化合物製備 [2]
C01B 6/19用硼之其他化合物製備 [2]
C01B 6/21鹼金屬、鹼土金屬、鎂或鈹之氫硼化合物之製備,其加成錯合物,如LiBH42N2H4,NaB2H7 [2]
C01B 6/23其他金屬氫硼化物之製備,如硼氫化鋁;其加成錯合物如Li〔Al(BH4)3H〕[2]
C01B 6/24含至少兩種金屬之氫化物,如Li(A1H4);其加成錯合物(6/13至6/23優先)[2]
C01B 6/26用最高價之金屬或用其氧化物或其含氧酸鹽製備
C01B 6/34純化;穩定
C01B 7/00鹵素;氫鹵酸(含氧酸見11/00)
C01B 7/01氯;氯化氫 [2]
C01B 7/03用氯化物製備 [2,3]
C01B 7/04用氯化氫製備氯 [3]
C01B 7/05用氯化銨製備 [2,3]
C01B 7/07純化 [2,3]
C01B 7/075液態氯者 [2,3]
C01B 7/09溴;溴化氫 [2]
C01B 7/13碘;碘化氫 [2]
C01B 7/14碘 [2]
C01B 7/16用海藻製備 [2]
C01B 7/19氟;氟化氫 [2]
C01B 7/20氟 [2]
C01B 7/24鹵間化合物
C01B 9/00製備鹵化物之一般方法(個別特殊之鹵化物,見按與鹵素化合之元素分入C01B至C01G次類中各有關目;無機化合物之電解法製備見C25B)
C01B 9/02氯化物
C01B 9/04溴化物
C01B 9/06碘化物
C01B 9/08氟化物
C01B 11/00鹵素之氧化物或含氧酸;其鹽類
C01B 11/02氯之氧化物
C01B 11/04次氯酸
C01B 11/06次氯酸鹽,如漂白粉
C01B 11/08亞氯酸
C01B 11/10亞氯酸鹽
C01B 11/12氯酸
C01B 11/14氯酸鹽
C01B 11/16過氯酸
C01B 11/18過氯酸鹽
C01B 11/20溴之氧化合物
C01B 11/22碘之氧化合物
C01B 11/24氟之氧化合物
C01B 13/00氧;臭氧;一般氧化物或氫氧化物
C01B 13/02氧之製備(用液化法見F25J)
C01B 13/08用空氣借助金屬氧化物,如氧化鋇,氧化錳
C01B 13/10臭氧之製備
C01B 13/11用放電法 [2]
C01B 13/14製備一般氧化物或氫氧化物之方法,(個別特殊氧化物或氫氧化物見按與氧或羥基化合之元素分入之C01B至C01G或C25B中有關目)
C01B 13/16純化 [3]
C01B 13/18用化合物,如鹽或氫氧化物之熱分解 [3]
C01B 13/20用氣態元素之氧化;氣態化合物之氧化或水解 [3]
C01B 13/22鹵化物或鹵氧化物者 [3]
C01B 13/24於熱燃燒氣存在下 [3]
C01B 13/26於流化床存在下 [3]
C01B 13/28使用電漿或放電 [3]
C01B 13/30含懸浮物氧化物之去除及冷卻 [3]
C01B 13/32用液態者或固態之元素或化合物之氧化或水解法 [3]
C01B 13/34用噴霧或霧化溶液之氧化或水解法 [3]
C01B 13/36用溶液中之沈澱反應法 [3]
C01B 15/00過氧化物;過氧水合物;過氧酸或其鹽;超氧化物;臭氧化物
C01B 15/01過氧化氫 [3]
C01B 15/013分離,純化;濃縮 [3]
C01B 15/017無水過氧化氫;含有過氧化氫之無水溶液或氣態混合物 [3]
C01B 15/022用有機化合物製備 [2]
C01B 15/023用烷基醌方法 [3]
C01B 15/024用烴類 [3]
C01B 15/026用醇類 [3]
C01B 15/027用水製備 [3]
C01B 15/029用氫及氧製備 [3]
C01B 15/03用無機過氧化物製備,如用過硫酸鹽 [3]
C01B 15/032用金屬過氧化物 [3]
C01B 15/037用添加劑增強穩定性 [3]
C01B 15/04金屬過氧化物或其過氧化水合物;超氧化物;臭氧化物 [3]
C01B 15/043鹼金屬、鹼土金屬或鎂者 [2,3]
C01B 15/047重金屬者 [2,3]
C01B 15/055過氧化水合物(15/04優先);過氧酸或其鹽 [3]
C01B 15/06含硫 [3]
C01B 15/08過硫酸鹽 [3]
C01B 15/10含碳 [3]
C01B 15/12含硼 [3]
C01B 15/14含矽 [3]
C01B 15/16含磷 [3]
C01B 17/00硫;其化合物
C01B 17/02硫之製備;純化
C01B 17/027由含有元素硫之物料,如活性黃土中回收硫;純化 [3]
C01B 17/033利用液體提取劑 [3]
C01B 17/04用包括氣態硫化物之氣態含硫化合物
C01B 17/05用濕法 [3]
C01B 17/06用非氣態硫化物或內有此種硫化物之物料,如礦石
C01B 17/10細碎硫,如昇華硫,硫華
C01B 17/12不溶性硫(μ-硫)
C01B 17/16硫化氫
C01B 17/18多硫化氫
C01B 17/20製備一般硫化物或多硫化物之方法(硫化銨或多硫化銨見C01C;除鹼金屬、鎂、鈣、鍶及鋇以外之金屬硫化物或多硫化物,見按金屬分入之C01F或C01G內有關各目)
C01B 17/22鹼金屬之硫化物或多硫化物
C01B 17/24用還原法製備
C01B 17/26用碳
C01B 17/28用還原氣體
C01B 17/30用鈉汞齊或鉀汞齊與硫或硫化物製備
C01B 17/32鈉或鉀之氫硫化物
C01B 17/34鈉或鉀之多硫化物
C01B 17/36純化
C01B 17/38脫水
C01B 17/40製造成型產品,如顆粒
C01B 17/42鎂、鈣、鍶或鋇之硫化物或多硫化物
C01B 17/43用氧化物或氫氧化物與硫或硫化氫
C01B 17/44用硫酸鹽還原法
C01B 17/45含氧或不含氧之硫及鹵素之化合物
C01B 17/46含硫、鹵素、氫及氧之化合物
C01B 17/48二氧化硫;亞硫酸
C01B 17/50二氧化硫之製備
C01B 17/52用硫化物焙燒法(礦石或廢料之初步處理見C22B 1/00)[1,2006.01]
C01B 17/54用元素硫燃燒法
C01B 17/56分離;純化
C01B 17/58由酸焦油及同類物中二氧化硫之回收
C01B 17/60煤氣中二氧化硫之分離
C01B 17/62一般亞硫酸鹽之製備方法(個別特殊之亞硫酸鹽,見按其正離子而分之C01B至C01G有關各目)
C01B 17/64硫代硫酸鹽;連二亞硫酸鹽;連多硫酸鹽
C01B 17/66連二亞酸鹽
C01B 17/69三氧化硫;硫酸 [3]
C01B 17/70(一形三氧化硫之穩定
C01B 17/74製備 [3]
C01B 17/76用接觸法
C01B 17/765三氧化硫多級轉化 [3]
C01B 17/77流化床方法 [3]
C01B 17/775液相接觸方法或濕催化方法 [3]
C01B 17/78以所用催化劑為特徵者
C01B 17/79含釩 [3]
C01B 17/80裝置
C01B 17/82使用氧化氮法之硫酸者
C01B 17/84鉛室法
C01B 17/86塔式法
C01B 17/88硫酸之濃縮
C01B 17/90分離;純化
C01B 17/92由酸焦油及同類物中回收
C01B 17/94由硝化酸中回收
C01B 17/96一般硫酸鹽之製備方法(個別特殊之硫酸鹽,見其按正離子而分C01B至C01G有關各目)
C01B 17/98含硫及氧之其他化合物(過硫酸見15/06;過硫酸鹽見15/08)
C01B 19/00硒;碲;其化合物(磷之化合物見25/14)
C01B 19/02元素硒或碲 [3]
C01B 19/04二元化合物 [3]
C01B 21/00氮;其化合物
C01B 21/02氮之製備(用氨製備見3/04)
C01B 21/04氮之淨化或分離(用液化法見F25J)
C01B 21/06氮與金屬、與矽、或與硼的二元化合物(疊氮化物見21/08)
C01B 21/064與硼 [3]
C01B 21/068與矽 [3]
C01B 21/072與鋁 [3]
C01B 21/076與鈦或鋯 [3]
C01B 21/08疊氮酸;疊氮化物;疊氮化鹵
C01B 21/082含氮及非金屬之化合物(21/06,21/08優先)[3]
C01B 21/083含有一個或多個鹵素原子 [3]
C01B 21/084亦含有一個或多個氧原子,如亞硝醯鹵化物 [3]
C01B 21/086含有一個或多個硫原子 [3]
C01B 21/087含有一個或多個氫原子 [3]
C01B 21/088亦含有一個或多個鹵原子[3]
C01B 21/09鹵化胺,如氯胺 [3]
C01B 21/092亦含有一個或多個金屬原子 [3]
C01B 21/093亦含有一個或多個硫原子[3]
C01B 21/094含有酸之亞硝醯者 [3]
C01B 21/096氨基磺酸;其鹽類 [3]
C01B 21/097含有磷原子 [3]
C01B 21/098二氧磷基之二鹵化物;其聚合物 [3]
C01B 21/12氨基甲酸;其鹽類
C01B 21/14羥胺;其鹽類
C01B 21/16肼;其鹽類
C01B 21/20氮之氧化物;氮之含氧酸;其鹽類
C01B 21/22一氧化二氮(N2O)
C01B 21/24一氧化氮(NO)
C01B 21/26用氨之催化氧化法製備
C01B 21/28裝置
C01B 21/30用氮之氧化法製備
C01B 21/32裝置
C01B 21/34三氧化二氮(N2O3)
C01B 21/36二氧化氮(NO2 , N2O4)(21/26, 21/30優先)
C01B 21/38硝酸
C01B 21/40用氮之氧化物吸收法製備
C01B 21/42用硝酸鹽製備
C01B 21/44濃縮
C01B 21/46純化;分離
C01B 21/48一般硝酸鹽之製備方法(個別特殊之硝酸鹽,見按其正離子分之C01B至C01G有關各目)
C01B 21/50亞硝酸;其鹽類
C01B 23/00惰性氣體;其化合物;(液化見F25J)
C01B 25/00磷;其化合物(21/00;23/00優先;過磷酸鹽見15/16)[3]
C01B 25/01處理磷酸鹽礦或其他含磷酸鹽物料製備磷或磷之化合物 [2]
C01B 25/02磷之製備
C01B 25/023紅磷者 [2]
C01B 25/027黃磷者 [2]
C01B 25/04磷之純化
C01B 25/043紅磷者 [2]
C01B 25/047黃磷者 [2]
C01B 25/06磷化氫
C01B 25/08其他磷化物
C01B 25/10磷之鹵化物或鹵氧化物 [2]
C01B 25/12磷之氧化物
C01B 25/14含硫、硒或碲之磷化合物
C01B 25/16磷之含氧酸;其鹽類(過氧酸或其鹽見15/00)
C01B 25/163亞磷酸;其鹽類 [2,2006.01]
C01B 25/165次磷酸;其鹽類 [2]
C01B 25/168焦亞磷酸;其鹽類 [2]
C01B 25/18磷酸
C01B 25/20由元素磷或磷酐製備
C01B 25/22用含磷酸鹽物料與酸反應製備,如濕法
C01B 25/222與硫酸,以硫酸為主要成分之酸之混合物或反應中形成其化合物混合物,如二氧化硫,水及氧之混合物 [3]
C01B 25/223僅形成一種形式之硫酸鈣 [3]
C01B 25/225二水合物法 [3]
C01B 25/226半水合物法 [3]
C01B 25/228形成一種形式之硫酸鈣然後轉變成另一種形式 [3]
C01B 25/229半水合物-二水合物法 [3]
C01B 25/231二水合物一半水合物法 [3]
C01B 25/232用含磷酸鹽之物料與濃硫酸反應然後浸提所獲得之塊狀物以製備,如熔塊法 [3]
C01B 25/234純化;穩定;濃縮;(伴隨製備之純化見25/22;含溶劑-溶劑萃取之製備見25/46)
C01B 25/235澄清;穩定以防止溶解雜質之繼續沉澱 [3]
C01B 25/237雜質之選擇性消除 [3]
C01B 25/238陽離子之雜質 [3]
C01B 25/24縮合磷酸
C01B 25/26磷酸鹽(過磷酸鹽見15/16)
C01B 25/28磷酸銨
C01B 25/30鹼金屬磷酸鹽
C01B 25/32鎂、鈣、鍶或鋇之磷酸鹽
C01B 25/34磷酸鎂
C01B 25/36磷酸鋁
C01B 25/37重金屬磷酸鹽 [2]
C01B 25/38縮合磷酸鹽
C01B 25/39鹼金屬者 [3]
C01B 25/40多磷酸鹽 [2]
C01B 25/41鹼金屬者 [3]
C01B 25/42焦磷酸鹽 [2]
C01B 25/44偏磷酸鹽 [2]
C01B 25/445鹼金屬者 [3]
C01B 25/45含兩種以上金屬或金屬及銨 [3]
C01B 25/455含鹵素 [3]
C01B 25/46含溶劑-溶劑萃取之製備(萃取本身見B01D11/00)[2]
C01B 31/00(轉見 32/00, 32/10- 32/15, 32/22)
C01B 31/02(轉見 32/05,32/15- 32/198)
C01B 31/04(轉見 32/182 - 32/23)
C01B 31/06(轉見 32/25 - 32/28)
C01B 31/08(轉見 32/30 - 32/33,32/354 - 32/378,32/39)
C01B 31/10(轉見 32/336)
C01B 31/12(轉見 32/342 - 32/348)
C01B 31/14(轉見 32/384)
C01B 31/16(轉見B01J 39/24,B01J 41/18)
C01B 31/18(轉見 32/40)
C01B 31/20(轉見 32/50)
C01B 31/22(轉見 32/55)
C01B 31/24(轉見 32/60)
C01B 31/26(轉見 32/70 - 32/77)
C01B 31/28(轉見 32/80)
C01B 31/30(轉見 32/90 - 32/935)
C01B 31/32(轉見 32/942)
C01B 31/34(轉見 32/949)
C01B 31/36(轉見 32/956 - 32/991)
C01B 32/00碳;其化合物(21/00,23/00 優先;過碳酸鹽見15/10;碳黑見C09C1/48)[2017.01]
C01B 32/05碳的製備或淨化,不涵蓋32/15,32/20,32/25,32/30等目[2017.01]
C01B 32/10碳氟化合物,例如[CF]n或[C2F]n(其石墨層間見32/22)[2017.01]
C01B 32/15奈米碳材料[2017.01]
C01B 32/152富勒烯[2017.01]
C01B 32/154製備[2017.01]
C01B 32/156後處理[2017.01]
C01B 32/158奈米碳管[2017.01]
C01B 32/159單層[2017.01]
C01B 32/16製備[2017.01]
C01B 32/162其特徵為催化劑[2017.01]
C01B 32/164涉及連續製程[2017.01]
C01B 32/166液相[2017.01]
C01B 32/168後處理[2017.01]
C01B 32/17純化[2017.01]
C01B 32/172排序揀選[2017.01]
C01B 32/174衍生化;溶解;分散在溶劑[2017.01]
C01B 32/176切割[2017.01]
C01B 32/178開啟;充填[2017.01]
C01B 32/18奈米洋蔥;奈米卷;奈米角;奈米錐;奈米牆[2017.01]
C01B 32/182石墨烯[2017.01]
C01B 32/184製備[2017.01]
C01B 32/186利用化學氣相沉積法(CVD)[2017.01]
C01B 32/188利用晶膜生長[2017.01]
C01B 32/19利用剝離作用[2017.01]
C01B 32/192從石墨氧化物開始[2017.01]
C01B 32/194後處理[2017.01]
C01B 32/196純化[2017.01]
C01B 32/198氧化石墨烯[2017.01]
C01B 32/20石墨[2017.01]
C01B 32/205製備[2017.01]
C01B 32/21後處理[2017.01]
C01B 32/215純化;回收或純化在製鐵中形成的石墨,例如:凝析石墨[2017.01]
C01B 32/22插層[2017.01]
C01B 32/225擴張;剝離[2017.01]
C01B 32/23氧化[2017.01]
C01B 32/25鑽石[2017.01]
C01B 32/26製備(利用超高壓見B01J3/06;晶體生長C30B29/04)[2017.01]
C01B 32/28後處理,例如:純化、照射、分離或回收[2017.01]
C01B 32/30活性碳[2017.01]
C01B 32/306具有分子篩性質[2017.01]
C01B 32/312製備[2017.01]
C01B 32/318具起動物質特性[2017.01]
C01B 32/324從廢棄物,例如:輪胎或亞硫酸鹽廢漿液[2017.01]
C01B 32/33從煤或石油的蒸餾殘渣;來自石油酸污泥[2017.01]
C01B 32/336其特徵在於氣體活化劑[2017.01]
C01B 32/342其特徵在於非氣體活化劑[2017.01]
C01B 32/348金屬化合物[2017.01]
C01B 32/354後處理[2017.01]
C01B 32/36再活化或再生[2017.01]
C01B 32/366物理的處理,例如:藉由照射、藉由使用電流通過含碳進料或藉由可回收再利用的惰性加熱體[2017.01]
C01B 32/372塗層;嫁接;微膠囊化[2017.01]
C01B 32/378純化[2017.01]
C01B 32/384造粒[2017.01]
C01B 32/39製備及其設備裝置[2017.01]
C01B 32/40一氧化碳[2017.01]
C01B 32/50二氧化碳[2017.01]
C01B 32/55固化[2017.01]
C01B 32/60碳酸鹽或碳酸氫鹽一般製備方法(過碳酸鹽見15/10;特定碳酸鹽或碳酸氫鹽的陽離子見C01B-C01G)[2017.01]
C01B 32/70含碳和硫的化合物,例如:硫光氣[2017.01]
C01B 32/72二硫化碳[2017.01]
C01B 32/75藉由硫或硫反應製備碳氫化合物(烴類) [2017.01]
C01B 32/77硫氧化碳 [2017.01]
C01B 32/80光氣 [2017.01]
C01B 32/90碳化物 [2017.01]
C01B 32/907氧化碳;硫碳化物;碳化物的混合物 [2017.01]
C01B 32/914單一元素的碳化物 [2017.01]
C01B 32/921碳化鈦 [2017.01]
C01B 32/928錒系碳化物 [2017.01]
C01B 32/935鹼性金屬的碳化物、鍶、鋇或鎂 [2017.01]
C01B 32/942碳化鈣(電石) [2017.01]
C01B 32/949碳化鎢或碳化鉬 [2017.01]
C01B 32/956碳化矽 [2017.01]
C01B 32/963從含矽化合物來製備 [2017.01]
C01B 32/97從SiO或SiO2製備 [2017.01]
C01B 32/977從含矽的有機化合物來製備 [2017.01]
C01B 32/984從矽元素來製備[2017.01]
C01B 32/991碳化硼 [2017.01]
C01B 33/00矽;其化合物(21/00,23/00優先;過矽酸鹽見15/14;碳化物見31/36)[3]
C01B 33/02矽(形成單晶或有一定結構之均勻多晶材料見C30B)[5]
C01B 33/021製備(由氣相之化學塗層見C23C16/00)[5]
C01B 33/023用二氧化矽或含二氧化矽之物料之還原方法 [5]
C01B 33/025使用碳或固體碳質物料,例如,碳熱還原工藝 [5]
C01B 33/027使用除二氧化矽或含二氧化矽物料以外之氣態或汽化之矽化合物之分解或還原[5]
C01B 33/029使用甲矽烷之分解 [5]
C01B 33/03使用鹵化矽或鹵化矽烷之分解,或其以氫作為唯一的還原劑之還原 [5]
C01B 33/031使用四碘化矽之分解 [5]
C01B 33/033使用金屬或金屬合金作為唯一還原劑之鹵化矽或鹵代矽烷之還原 [5]
C01B 33/035於存在矽、碳或耐熔金屬,如鉭或鎢之熱絲情況下,或於存在熱矽棒情況下,經由沈積矽獲得之矽棒,如西門子方法(Siemens process),用氣態或汽化之矽化物之分解或還原[5]
C01B 33/037純化(用區域熔融見C30B 13/00)[5]
C01B 33/039使用將矽轉化為化合物、任意法純化化合物並再轉化為矽 [5]
C01B 33/04矽之氫化物
C01B 33/06金屬之矽化物(合金見C22)
C01B 33/08含鹵素之化合物
C01B 33/10含矽、氟及其他元素之化合物
C01B 33/107鹵化矽烷 [3]
C01B 33/113氧化矽;其水合物 [3]
C01B 33/12矽石;其水合物,如靭皮矽酸[3]
C01B 33/14膠體矽石,如分散體,凝膠,溶膠 [3]
C01B 33/141水溶膠或水分散體之製備[3]
C01B 33/142用矽酸鹽之酸處理法[3]
C01B 33/143矽酸鹽水溶性液者[3]
C01B 33/145水有機溶膠,有機溶膠或有機介質中分散體之製備 [3]
C01B 33/146溶膠之後處理(由水溶膠製備水有機溶膠,有機溶膠或有機介質中之分散體見33/145)[3]
C01B 33/148濃縮;乾燥;脫水;穩定;純化 [3]
C01B 33/149塗覆 [3]
C01B 33/151用逐步將一種溶膠添加到另一種溶膠內,即用一個起始物種使粒子累積 [3]
C01B 33/152水凝膠之製備 [3]
C01B 33/154用矽酸鹽水溶液之酸處理法 [3]
C01B 33/155水有機凝膠或有機凝膠之製備 [3]
C01B 33/157凝膠之後處理 [3]
C01B 33/158純化;乾燥;脫水 [3]
C01B 33/159塗覆或疏水化 [3]
C01B 33/16矽乾凝膠之製備 [3]
C01B 33/18即非溶膠態又非凝膠態之細分散矽石之製備;其後處理(用脫水凝膠製備氣凝膠見33/158;提高著色或填充性質之處理見C09C) [3]
C01B 33/187矽酸鹽之酸處理法 [3]
C01B 33/193矽酸鹽水溶液者 [3]
C01B 33/20矽酸鹽(過矽酸鹽見15/14)
C01B 33/22矽酸鎂
C01B 33/24鹼土金屬之矽酸鹽
C01B 33/26含鋁之矽酸鹽 [5]
C01B 33/32鹼金屬矽酸鹽(33/26優先)[3]
C01B 33/36具有鹼交換性質但不具分子篩性質(其再生見B01J49/00)[6]
C01B 33/38層狀鹼交換矽酸鹽,如黏土,雲母或水羥矽鈉石或菱羥矽鈉石型式之鹼金屬矽酸鹽 [6]
C01B 33/40黏土 [6]
C01B 33/42雲母 [6]
C01B 33/44與有機化合物如銨,磷或硫化合物行離子交換或置入有機化合物,如有機黏土材料,而得層狀鹼-交換矽酸鹽之產物 [6]
C01B 33/46無定形矽酸鹽,如所謂無定形沸石(結晶沸石見39/00)[6]
C01B 35/00硼;其化合物(甲硼烷,乙硼烷,金屬硼氫化物或其加成錯合物見6/00;過硼酸鹽見15/12;含氮之二元化合物見21/06;磷化物見25/08;碳化物見31/36;含硼合金見C22)[2]
C01B 35/02硼;硼化物 [2]
C01B 35/04金屬硼化物 [2]
C01B 35/06硼鹵化合物 [2]
C01B 35/08含硼及氮、磷、氧、硫、硒或碲之化合物 [2]
C01B 35/10含硼及氧之化合物(35/06優先)[2]
C01B 35/12硼酸鹽 [2]
C01B 35/14含硼及氮、磷、硫、硒或碲之化合物 [2]
C01B 35/16含兩個直接鍵合硼原子之化合物,如Cl2B-BCl2 [2]
C01B 35/18含有三個或更多硼原子之化合物,如NaB3H8,MgB10Br10(硼類見35/14)[2]
C01B 37/00具分子篩性質但不具鹼交換性質之化合物
C01B 37/02結晶矽石-多形体,如矽質岩 [6]
C01B 37/04磷酸鋁鹽(APO化合物)[6]
C01B 37/06含其它元素(如金屬,硼)之磷酸鋁鹽 [6]
C01B 37/08磷酸矽鋁鹽(SAPO化合物)[6]
C01B 39/00具分子篩與鹼交換性質之化合物,如結晶沸石;其製備;後處理,如離子交換或去鋁酸(利用黏合劑處理以改變其吸附性質,如成形見B01J20/10;修改催化性質之處理,如使沸石適於其做為觸媒用途之處理的結合,見B01J29/04;改良離子交換性質之處理,見B01J 39/14;離子交換性質之再生或再活化,見B01J49/00;清潔劑中穩定懸浮之製備,見C11D3/12)[6]
C01B 39/02結晶矽酸鋁沸石;其同形化合物;直接製備;由包含另一類型結晶沸石之反應混合物或由預先形成之反應物起始之製備;後處理 [6,2006.01]
C01B 39/04使用至少一種有機樣品直接試劑,如一種離子第四級銨化合物或胺化化合物 [6]
C01B 39/06以其它元素取代晶格結構中之鋁或矽原子為特徵之同形沸石之製備 [6]
C01B 39/08鋁原子完全被取代 [6]
C01B 39/10取代原子為磷原子 [6]
C01B 39/12取代原子為硼原子 [6]
C01B 39/14A型,如USA 2,882,243與GBA 1,035,644專利文件所例示 [6]
C01B 39/16由鹼金屬鋁酸鹽與鹼金屬矽酸鹽之水溶液,排除鋁或矽之任何其它來源 [6]
C01B 39/18由包含至少一種矽酸鋁或黏土型之矽酸鋁鹽,如高嶺土或偏高嶺土或其放熱變形體或水鋁英石的反應混合物
C01B 39/20八面沸石型,如X或Y型,如USA 2,882,244與USA 3,130,007各別專利文件所例示 [6]
C01B 39/22X型 [6]
C01B 39/24Y型 [6]
C01B 39/26絲光沸石型 [6]
C01B 39/28鈣十字石或交沸石型,如B型,如USA 3,008,803專利文件所例示 [6]
C01B 39/30毛沸石或菱鉀沸石型,如沸石T,如USA 2,950,952專利文件所例示 [6]
C01B 39/32L型,如USA 3,216,789專利文件所例示 [6]
C01B 39/34ZSM-4型,如GB A 1,117,568專利文件所例示,或如GB A 1,178,186專利文件所例示之Ω型 [6]
C01B 39/36硼碳烷矽酮型,如ZSM-5,ZSM-8或ZSM-11型,如USA 3,702,886,GB A 1,334,243與USA 3,709,979各別專利文件所例示 [6]
C01B 39/38ZSM-5型 [6]
C01B 39/40使用至少一種有機樣品直接試劑 [6]
C01B 39/42ZSM-12型,如USA 3,832,449專利文件所例示 [6]
C01B 39/44鐵鹼沸石型,如ZSM-21,ZSM-35或ZSM-38,如USA 4,046,859,USA 4,016,245與USA 4,046,859各別專利文件所例示 [6]
C01B 39/46以X-射線繞射及其特定組成為特徵之其它型 [6]
C01B 39/48使用至少一種有機樣品直接試劑 [6]
C01B 39/50無機鹼或鹽封關晶格結構中之孔洞之沸石,如方鈉石,鈣霞石,黝方石,藍方石 [6]
C01B 39/52方鈉石 [6]
C01B 39/54磷酸鹽,如APO或SAPO化合物 [6]
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