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共48筆資料
C | 化學;冶金;組合化學 |
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C07 | 有機化學(諸如碳之氧化物、硫化物或氧硫化物、氰、光氣、氫氰酸或其鹽類的化合物見C01;通過與有機化合物,如銨、磷或硫化合物的離子交換或通過有機化合物的嵌入由層狀鹼性交換的矽酸鹽得到的產物見C01B 33/44;高分子化合物見C08;染料見C09;發酵產物見C12;發酵用酶之方法合成所需的化合物或組合物或由外消旋混合物內分離的光學異構物見C12P;用電解或電泳法生產之有機化合物見C25B3/00,7/00) |
C07B | 有機化學之一般方法;及所用的裝置(用調聚反應製備羧酸酯見C07C67/47;調聚反應見C08F) |
C07B 31/00 | 一般的還原 [4] |
C07B 33/00 | 一般的氧化 [4] |
C07B 35/00 | 不形成或不引入含雜原子官能基之反應,其中包括原已直接相連的兩個碳原子間鍵型之變化 [4] |
C07B 35/02 | 還原 [4] |
C07B 35/04 | 脫氫 [4] |
C07B 35/06 | 分解,例如,脫鹵素,脫水或脫鹵化氫 [4] |
C07B 35/08 | 異構化 [4] |
C07B 37/00 | 不形成或不引入含雜原子官能基之反應,其中包括兩個原來不直接相連碳原子之間碳-碳鍵之形或兩個直接相連原子之斷開 [4] |
C07B 37/02 | 加成 [4] |
C07B 37/04 | 取代 [4] |
C07B 37/06 | 分解,例如,脫二氧化碳 [4] |
C07B 37/08 | 異構化 [4] |
C07B 37/10 | 環化 [4] |
C07B 37/12 | Diels-Alder反應 [4] |
C07B 39/00 | 鹵化 [4] |
C07B 41/00 | 含氧官能基之形成或引入 [4] |
C07B 41/02 | 羥基或氧-金屬基 [4] |
C07B 41/04 | 醚基,縮醛基或縮酮基 [4] |
C07B 41/06 | 羰基 [4] |
C07B 41/08 | 羧基或其鹽,鹵化物或酐 [4] |
C07B 41/10 | 羧基之鹽,鹵化物或酐 [4] |
C07B 41/12 | 羧酸酯基 [4] |
C07B 41/14 | 過氧基或過氧化氫基 [4] |
C07B 43/00 | 含氮官能基之形成或引入 [4] |
C07B 43/02 | 硝基或亞硝基 [4] |
C07B 43/04 | 氨基 [4] |
C07B 43/06 | 醯胺基[4] |
C07B 43/08 | 氰基 [4] |
C07B 43/10 | 異氰酸基 [4] |
C07B 45/00 | 含硫官能基之形成或引入 [4] |
C07B 45/02 | 磺酸基或二羥基磺醯基 [4] |
C07B 45/04 | 磺醯基或亞磺醯基 [4] |
C07B 45/06 | 巰基或硫醚基 [4] |
C07B 47/00 | 形成或引入未列入39/00~45/00各目之官能基 [4] |
C07B 49/00 | Grignard反應 [4] |
C07B 51/00 | 引入未列入上述各目內之保護基團或活化基團 [4] |
C07B 53/00 | 不對稱合成 [4] |
C07B 55/00 | 外消旋化,完全轉化或部分轉化 [4] |
C07B 57/00 | 旋光化合物之分離 [4] |
C07B 59/00 | 有機化合物中引入同位素 [4] |
C07B 60/00 | 有機自由基之生產[2011.01] |
C07B 61/00 | 其他的一般方法 [4] |
C07B 63/00 | 純化;分離(旋光化合物之分離見57/00);穩定化;添加劑之使用 [4] |
C07B 63/02 | 引起化學改性之處理 [4] |
C07B 63/04 | 添加劑之使用 [4] |