IPC國際專利分類查詢
共318筆資料
C | 化學;冶金;組合化學 |
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C10 | 石油、煤氣及煉焦工業;含一氧化碳之工業氣體;燃料;潤滑劑;泥煤 |
C10G | 烴油裂解;液態烴混合物之製備,例如,利用破壞性氫化反應,低聚反應,聚合反應(裂解成氫或合成氣見C01B;烴氣體裂解或熱解成各別烴類或其特定組成之混合物見C07C;裂解成焦炭見C10B);由油頁岩、油砂或油氣中回收烴油;含烴類為主之混合物的精製;石腦油之重組;礦物蠟(一般的抑制腐蝕或防污垢見C23F)[6] |
C10G 1/00 | 由油頁岩、油砂或非熔的固態含碳物料或類似物類,如木材、煤,製造液態烴混合物(由油頁岩、油砂及類似物用機械方法取得油見B03B) |
C10G 1/02 | 用蒸餾方法(油頁岩之乾餾見C10B 53/06) |
C10G 1/04 | 用萃取法 |
C10G 1/06 | 用破壞性加氫 |
C10G 1/08 | 用移動催化劑 |
C10G 1/10 | 從橡膠或橡膠廢料 |
C10G 2/00 | 由碳之氧化物製備組成不確定的液態烴混合物 [5] |
C10G 3/00 | 由含氧的有機物製備液態烴混合物,如由脂肪油,脂肪酸(由不熔的含氧之含碳固態物料製備見1/00;製造一定或特定結構的單烴或其混合物的烴見C07C) |
C10G 5/00 | 由氣體,如自天然氣中回收液態烴混合物 |
C10G 5/02 | 用固體吸附劑 |
C10G 5/04 | 用液體吸收劑 |
C10G 5/06 | 用冷卻或壓縮法 |
C10G 7/00 | 烴油之蒸餾(一般蒸餾見B01D) |
C10G 7/02 | 用分餾去除氣體以穩定汽油 |
C10G 7/04 | 脫水 |
C10G 7/06 | 真空蒸餾 [3] |
C10G 7/08 | 共沸蒸餾或萃取蒸餾(於不存在氫之情況下,採用選擇性溶劑萃取精製烴油見21/00)[3] |
C10G 7/10 | 蒸餾時防止腐蝕(一般的防腐見C23F)[3] |
C10G 7/12 | 控制或調節(一般控制或調節見G05)[3] |
C10G 9/00 | 於不存在氫之情況下,烴油之非催化熱裂化 |
C10G 9/02 | 於乾餾釜內 |
C10G 9/04 | 乾餾釜 |
C10G 9/06 | 用加壓蒸餾 |
C10G 9/08 | 所用設備 |
C10G 9/12 | 去除積垢 |
C10G 9/14 | 於帶有或不帶有輔件之管內或盤管中,例如蒸煮器,裂化反應塔,膨脹器 |
C10G 9/16 | 防止或去除積垢 |
C10G 9/18 | 設備 |
C10G 9/20 | 管式爐 |
C10G 9/24 | 用電加熱法 |
C10G 9/26 | 用不連續預熱的不移動的固態物料,如噴氣及運行 |
C10G 9/28 | 用預熱的移動的固體物料 |
C10G 9/30 | 按照移動床技術者 |
C10G 9/32 | 按照流動床技術者 |
C10G 9/34 | 用與惰性的經預熱的流體直接接觸,如用熔融金屬或熔融鹽 |
C10G 9/36 | 用熱之氣體或蒸氣 |
C10G 9/38 | 由待裂化物料之部分燃燒或另一種烴之燃燒產生 [2] |
C10G 9/40 | 與除熱燃燒氣體外之經預熱的流體之間接接觸 |
C10G 9/42 | 將待裂化的物料以細流或噴霧狀通至連續加熱之表面或表面附近 |
C10G 11/00 | 於不存在氫之情況下、烴油之催化裂化(與熔融金屬或熔融鹽直接接觸的裂化見9/34) |
C10G 11/02 | 以所用的催化劑為特徵者 |
C10G 11/04 | 氧化物 |
C10G 11/05 | 晶狀矽鋁酸鹽,如分子篩 [3] |
C10G 11/06 | 硫化物 |
C10G 11/08 | 鹵化物 |
C10G 11/10 | 用固定催化劑床 |
C10G 11/12 | 用不連續預熱的不移動的固態催化劑,如送風與運行 |
C10G 11/14 | 用經預熱的移動的固態催化劑 |
C10G 11/16 | 按移動床技術者 |
C10G 11/18 | 按流動床技術者 |
C10G 11/20 | 與惰性加熱氣體或蒸汽直接接觸 |
C10G 11/22 | 由待裂化的物料之部分燃燒產生 |
C10G 15/00 | 用電方法、電磁或機械振動、用粒子輻射或用於電弧內過熱的氣體進行烴油之裂化 |
C10G 15/08 | 用電或電磁或機械振動之方法 [3] |
C10G 15/10 | 用粒子輻射 [3] |
C10G 15/12 | 用於電弧內過熱的氣體,如電漿 [3] |
C10G 17/00 | 於不存在氫之情況下,用酸、酸式化合物或含酸液體,如酸渣,精製烴油 |
C10G 17/02 | 用酸或含酸液體,如酸渣 |
C10G 17/04 | 形成不相混的兩相之液一液處理 |
C10G 17/06 | 使用硫之衍生酸或其酸渣 |
C10G 17/07 | 使用氫鹵酸或鹵之含氧酸(生成鹵素之酸見27/02)[3] |
C10G 17/08 | 用成酸氧化物(用CO2或SO2作為選擇性溶劑之精製見21/06) |
C10G 17/085 | 用發煙流酸 [3] |
C10G 17/09 | 用酸式鹽 [3] |
C10G 17/095 | 用固體酸,如沉積於載體上之磷酸 [3] |
C10G 17/10 | 回收用過的精製劑 |
C10G 19/00 | 於不存在氫之情況下,用鹹處理精製烴油 |
C10G 19/02 | 用鹹性水溶液 |
C10G 19/04 | 含增溶劑,如溶解加速劑 |
C10G 19/06 | 用鉛酸鹽或高鉛酸鹽 |
C10G 19/067 | 用熔化的鹼性物料 [3] |
C10G 19/073 | 用固態鹹性物料 [3] |
C10G 19/08 | 回收用過的精製劑 |
C10G 21/00 | 於不存在氫之情況下,用選擇性之溶劑萃取精製烴油(17/00,19/00優先;脫蠟油見73/02) |
C10G 21/02 | 用兩種或兩種以上溶劑分別地加入或排出者 |
C10G 21/04 | 以彼此逆流之方式同時加入至少兩種不相溶混的溶劑 |
C10G 21/06 | 以所用的溶劑為特徵者 |
C10G 21/08 | 僅用無機化合物 |
C10G 21/10 | 二氧化硫 |
C10G 21/12 | 僅用有機化合物 |
C10G 21/14 | 烴類 |
C10G 21/16 | 含氧化合物 |
C10G 21/18 | 含鹵化合物 |
C10G 21/20 | 含氮化合物 |
C10G 21/22 | 含硫、硒或碲之化合物 |
C10G 21/24 | 含磷化合物 |
C10G 21/26 | 含矽化合物 |
C10G 21/27 | 於21/14至21/26內之單一目內中所不包括的有機化合物 [3] |
C10G 21/28 | 回收用過的溶劑 [3] |
C10G 21/30 | 控制或調節(一般的控制或調節見G05)[5] |
C10G 25/00 | 於不存在氫之情況下,用固體吸附劑精製烴油 |
C10G 25/02 | 用離子交換材料 |
C10G 25/03 | 用晶狀矽鋁酸鹽,如分子篩[3] |
C10G 25/05 | 去除非烴類化合物,如硫化物 [3] |
C10G 25/06 | 用移動的吸附劑或分散於油中之吸附劑 |
C10G 25/08 | 按移動床技術者 |
C10G 25/09 | 按流動床技術者[3] |
C10G 25/11 | 於有移動的吸附劑之情況下的蒸餾 [3] |
C10G 25/12 | 回收用過的吸附劑 |
C10G 27/00 | 於不存在氫之情況下,用氧化法精製烴油 |
C10G 27/02 | 用鹵素或產生鹵素之化合物;次氯酸或其鹽 |
C10G 27/04 | 用氧或產生氧之化合物 |
C10G 27/06 | 於鹹溶液之存在下 |
C10G 27/08 | 於氯化銅之存在下 |
C10G 27/10 | 於存在金屬有機配合物情況下,如螯合物、或陽離子交換樹脂 [3] |
C10G 27/12 | 用產生氧之化合物,如過化合物、鉻酸鹽(鉛酸鹽或高鉛酸鹽見19/06)[3] |
C10G 27/14 | 用含臭氧之氣體 [3] |
C10G 29/00 | 於不存在氫之情況下,用其他化學品精製烴油 |
C10G 29/02 | 非金屬 |
C10G 29/04 | 金屬或沉積於載體上之金屬 |
C10G 29/06 | 金屬鹽或沈積於載體上之金屬鹽 |
C10G 29/08 | 含低價金屬者 |
C10G 29/10 | 硫化物 |
C10G 29/12 | 鹵化物 [3] |
C10G 29/16 | 金屬氧化物 |
C10G 29/20 | 不含金屬原子之有機化合物 |
C10G 29/22 | 含有氧作為僅有的雜原子者 |
C10G 29/24 | 醛或酮 |
C10G 29/26 | 鹵化烴 |
C10G 29/28 | 含有硫作為僅有的雜原子者,如硫醇,或硫及氧作為僅有的雜原子 |
C10G 31/00 | 於不存在氫之情況下,用其他未提及的方法精製烴油(用蒸餾見7/00)[2] |
C10G 31/06 | 用加熱、冷卻或加壓處理 |
C10G 31/08 | 用水處理 [3] |
C10G 31/09 | 用過濾法 [3] |
C10G 31/10 | 借助離心力 |
C10G 31/11 | 用滲析法 [3] |
C10G 32/00 | 用電法或磁法,用輻射光,或用微生物方法精製烴油 [3] |
C10G 32/02 | 用電或磁之方法 |
C10G 32/04 | 用粒子輻射法 [3] |
C10G 33/00 | 烴油之脫水或破乳化(蒸餾法見7/04) |
C10G 33/02 | 用電或磁之方法 |
C10G 33/04 | 用化學方法 |
C10G 33/06 | 用機械方法,如過濾 |
C10G 33/08 | 控制或調節(一般控制或調節見G05)[3] |
C10G 35/00 | 石油腦之重整 |
C10G 35/02 | 熱重整 |
C10G 35/04 | 催化重整 |
C10G 35/06 | 以所用催化劑為特徵者 |
C10G 35/085 | 含有鉑族金屬或此等之化合物 [3] |
C10G 35/09 | 至少有一金屬為鉑族之雙金屬催化劑 [3] |
C10G 35/095 | 含晶狀矽鋁酸鹽,如分子篩[3] |
C10G 35/10 | 用移動的催化劑 |
C10G 35/12 | 按移動床技術者 |
C10G 35/14 | 按流動床技術者 |
C10G 35/16 | 用電、電磁或機械振動;用粒子輻射 |
C10G 35/22 | 重整操作之開車 [3] |
C10G 35/24 | 重整操作之控制或調節(一般控制或調節見G05)[3] |
C10G 45/00 | 用氫或生成氫之化合物精製烴油 [3] |
C10G 45/02 | 去除雜原子,而無需改變有關烴之骨架及裂解成低沸點的烴;加氫精製 [3] |
C10G 45/04 | 以所用的催化劑為特徵者 |
C10G 45/06 | 含鎳或鈷金屬,或其化合物者 [3] |
C10G 45/08 | 與鉻、鉬或鎢金屬或此等之化合物相結合 [3] |
C10G 45/10 | 含鉑族金屬或其化合物者[3] |
C10G 45/12 | 含晶狀矽鋁酸鹽,如分子篩[3] |
C10G 45/14 | 用移動的固體粒子 [3] |
C10G 45/16 | 懸浮於油中者,如漿液 [3] |
C10G 45/18 | 按移動床技術者 [3] |
C10G 45/20 | 按流動床技術者 [3] |
C10G 45/22 | 用溶解或懸浮於油之氫 [3] |
C10G 45/24 | 用生成氫之化合物 [3] |
C10G 45/26 | 水蒸氣或水 [3] |
C10G 45/28 | 有機化合物:由氫精製 [3] |
C10G 45/30 | 以所用的催化劑為特徵者[3] |
C10G 45/32 | 二烯或炔烴化合物之選擇性加氫 [3] |
C10G 45/34 | 以所用的催化劑為特徵者 [3] |
C10G 45/36 | 含鎳或鈷金屬,或其化合物者 [3] |
C10G 45/38 | 與鉻、鉬或鎢金屬或與此等之化合物相結合 [3] |
C10G 45/40 | 含鉑族金屬或其化合物 [3] |
C10G 45/42 | 用移動的固體粒子 [3] |
C10G 45/44 | 芳烴之加氫 [3] |
C10G 45/46 | 以所用的催化劑為特徵者 [4] |
C10G 45/48 | 含鎳或鈷金屬或此等之化合物 [3] |
C10G 45/50 | 與鉻、鉬或鎢金屬結合或與此等之化合物結合 [3] |
C10G 45/52 | 含鉬族金屬或此等之化合物者 [3] |
C10G 45/54 | 含晶狀之矽鋁酸鹽者,如分子篩 [3] |
C10G 45/56 | 用移動固體粒子 [3] |
C10G 45/58 | 改變某些所含烴之結構骨架,而不使另一部分所存的烴裂解,如降低傾點;正構烷烴之選擇性加氫裂化(32/00優先;改進或增加石腦油之辛烷值或芳烴含量見35/00)[3] |
C10G 45/60 | 以所用的催化劑為特徵者 [3] |
C10G 45/62 | 含鉑族金屬或此等之化合物 [3] |
C10G 45/64 | 含結晶之矽鋁酸者,如分子篩 [3] |
C10G 45/66 | 用移動固體粒子 [3] |
C10G 45/68 | 烴油餾分之芳構化(石腦油本身見35/00)[3] |
C10G 45/70 | 用含鉑族金屬或此等之化合物之催化劑。[3] |
C10G 45/72 | 控制或調節(一般控制或調節見G05)[3] |
C10G 47/00 | 於存在氫或存在生成氫之化合物的情況下,為獲得低沸點之餾份的烴油裂解(15/00優先;非熔的含碳固態物質之類似物的破壞性氫化見1/06)[3] |
C10G 47/02 | 以所用的催化劑為特徵 [3] |
C10G 47/04 | 氧化物 [3] |
C10G 47/06 | 硫化物 [3] |
C10G 47/08 | 鹵化物 [3] |
C10G 47/10 | 用沉積於載體上之催化劑 [3] |
C10G 47/12 | 無機載體 [3] |
C10G 47/14 | 含鉑族金屬或其化合物之催化劑 [3] |
C10G 47/16 | 結晶矽鋁酸鹽載體 [3] |
C10G 47/18 | 含鉑族金屬或其等之化合物之催化劑 [3] |
C10G 47/20 | 含其他金屬或此等之化合物之催化劑 [3] |
C10G 47/22 | 於存在氫之情況下非催化裂解 [3] |
C10G 47/24 | 用移動固體粒子 [3] |
C10G 47/26 | 懸浮於油中者,如漿液 [3] |
C10G 47/28 | 按移動床技術者 [3] |
C10G 47/30 | 按流化床技術者 [3] |
C10G 47/32 | 於存在產生氫之化合物的情況下 [3] |
C10G 47/34 | 有機化合物,如經氫化的烴類 [3] |
C10G 47/36 | 控制或調節(一般控制或調節見G05)[3] |
C10G 49/00 | 於存在氫或產生氫之化合物的情況下,於45/02,45/32,45/44,45/58或47/00單一目內未包括的烴油之處理 [3] |
C10G 49/02 | 以所用的催化劑為特徵者 [3] |
C10G 49/04 | 含鎳、鈷、鉻、鉬或鎢金屬或此等化合物者 [3] |
C10G 49/06 | 含鉑族金屬或此等化合物 [3] |
C10G 49/08 | 含結晶矽鋁酸鹽者,如分子篩 [3] |
C10G 49/10 | 用移動固體粒子 [3] |
C10G 49/12 | 懸浮於油中者,如漿液 [3] |
C10G 49/14 | 按移動床技術者 [3] |
C10G 49/16 | 按流化床技術者 [3] |
C10G 49/18 | 於產生氫之化合物的存在下,如氨、水、硫化氫 [3] |
C10G 49/20 | 有機化合物 [3] |
C10G 49/22 | 流出物之分離 [3] |
C10G 49/24 | 加氫處理之操作的開車 [3] |
C10G 49/26 | 控制與調節(一般控制與調節見G05)[3] |
C10G 50/00 | 由低碳數烴製備液態烴混合物,例如,利用低聚反應(各別烴類或其特定組成之混合物的製備見C07C)[6] |
C10G 50/02 | 製備潤滑目的之烴油 [6] |
C10G 51/00 | 於不存在氫之情況下,僅用兩步或多步裂解工藝過程處理烴油 [3] |
C10G 51/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 51/04 | 僅包括熱裂解及催化裂化步驟者 [3] |
C10G 51/06 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 53/00 | 於不存在氫之情況下,用兩步或多步精製工藝過程處理烴油 [3] |
C10G 53/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 53/04 | 至少包括一個萃取工藝步驟者 [3] |
C10G 53/06 | 僅包括萃取步驟,如芳烴萃取後接溶劑脫瀝青之處理(採用兩種或多種溶劑、溶劑之加入與排出分別進行的一步法精製見21/02)[3] |
C10G 53/08 | 至少包括一個吸附步驟者 [3] |
C10G 53/10 | 至少包括一個酸處理步驟者 [3] |
C10G 53/12 | 至少包括一個鹹處理步驟者 [3] |
C10G 53/14 | 至少包括一個氧化步驟者 [3] |
C10G 53/16 | 僅多級並聯工藝過程者 [3] |
C10G 55/00 | 於不存在氫之情況下,用至少一個精製過程及至少一個裂解過程處理烴油 [3] |
C10G 55/02 | 僅多級串聯工藝過程者 [3] |
C10G 55/04 | 至少包括一個熱裂解步驟者[3] |
C10G 55/06 | 至少包括一個催化裂化步驟者 [3] |
C10G 55/08 | 僅多級並聯工藝過程者 [3] |
C10G 57/00 | 於不存在氫之情況下,用至少一個裂解工藝過程或精製工藝過程及至少一個其他轉化過程處理烴油 [3] |
C10G 57/02 | 用聚合反應 [3] |
C10G 59/00 | 僅用兩個或多個重整工藝過程或用至少一個重整工藝過程及一個實施上不改變石腦油沸程之工藝過程處理石腦油 [3] |
C10G 59/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 59/04 | 至少包括一個催化重整與至少一個非催化重整步驟者 [3] |
C10G 59/06 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 61/00 | 於不存在氫之情況下,用至少一個重整工藝過程及至少一個精製工藝過程處理石腦油 [3] |
C10G 61/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 61/04 | 精製步驟為萃取 [3] |
C10G 61/06 | 精製步驟為吸附 [3] |
C10G 61/08 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 61/10 | 尚包括其他轉化步驟之的工藝過程 [3] |
C10G 63/00 | 用至少一個重整工藝過程及至少一個其他轉化步驟之工藝過程處理石腦油(59/00,61/00優先)[3] |
C10G 63/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 63/04 | 至少包括一個裂解步驟 [3] |
C10G 63/06 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 63/08 | 至少包括一個裂解步驟 [3] |
C10G 65/00 | 僅用二個或多個加氫處理工藝過程處理烴油 [3] |
C10G 65/02 | 僅多步串聯者 [3] |
C10G 65/04 | 僅包括精製步驟者 [3] |
C10G 65/06 | 至少有一個步驟係二烯烴選擇性加氫 [3] |
C10G 65/08 | 至少有一個步驟係芳烴加氫 [3] |
C10G 65/10 | 僅包括裂解步驟者 [3] |
C10G 65/12 | 包括裂解步驟及其他加氫處理步驟者 [3] |
C10G 65/14 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 65/16 | 僅包括精製步驟 [3] |
C10G 65/18 | 僅包括裂解步驟 [3] |
C10G 67/00 | 用至少一個加氫處理工藝過程及至少一個僅於不存在氫之情況下的精製過程處理烴油 [3] |
C10G 67/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 67/04 | 於不存在氫之情況下,包括有一溶劑萃取作為精製步驟者 [3] |
C10G 67/06 | 於不存在氫之情況下,包括一個吸附工藝過程作為精製步驟者 [3] |
C10G 67/08 | 於不存在氫之情況下,包括一酸處理工藝過程作為精製步驟者 [3] |
C10G 67/10 | 於不存在氫之情況下,包括一鹼處理工藝過程作為精製步驟者[3] |
C10G 67/12 | 於不存在氫之情況下,包括一氧化反應作為精製步驟者 [3] |
C10G 67/14 | 於不存在氫之情況下,包括至少有兩個不同的精製步驟者 [3] |
C10G 67/16 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 69/00 | 用至少一個加氫處理工藝過程及至少一個其他的轉化步驟處理烴油(67/00優先)[3] |
C10G 69/02 | 僅多級串聯者 [3] |
C10G 69/04 | 不存在氫之情況下,至少包括一個催化裂化步驟者 [3] |
C10G 69/06 | 不存在氫之情況下,至少包括一個熱裂解步驟者 [3] |
C10G 69/08 | 至少包括一個石腦油重整步驟者 [3] |
C10G 69/10 | 高沸點餾分加氫裂解成石腦油及所得的石腦油重整 [3] |
C10G 69/12 | 至少包括一個聚合反應或烷基化步驟者 [3] |
C10G 69/14 | 僅多級並聯者 [3] |
C10G 70/00 | 由9/00,11/00,15/00,47/00,51/00目內包括的方法製得的不確定的正常氣體混合物之加工 [5] |
C10G 70/02 | 用氫化 [5] |
C10G 70/04 | 用物理方法 [5] |
C10G 70/06 | 通過氣液接觸 [5] |
C10G 71/00 | 用其它未提及的方法處理潤滑用之烴油或脂肪油(潤滑組合物見C10M)[3] |
C10G 71/02 | 用無聲放電處理法增稠(用無聲放電化學改性乾油見C09F 7/04)[3] |
C10G 73/00 | 礦物蠟之回收或精製,如地蠟(以蠟為主之組合物見C08L 91/00)[3] |
C10G 73/02 | 烴油內之石油蠟的回收;烴油之脫蠟 [3] |
C10G 73/04 | 用助濾劑 [3] |
C10G 73/06 | 用溶劑 [3] |
C10G 73/08 | 有機化合物 [3] |
C10G 73/10 | 烴 [3] |
C10G 73/12 | 含氧化合物 [3] |
C10G 73/14 | 含鹵素化合物 [3] |
C10G 73/16 | 含氮化合物 [3] |
C10G 73/18 | 含硫、硒、碲者 [3] |
C10G 73/20 | 含磷者 [3] |
C10G 73/22 | 有機化合物之混合物 [3] |
C10G 73/23 | 已使用過溶劑之回收 [6] |
C10G 73/24 | 用形成加合物之方法 [3] |
C10G 73/26 | 用浮選法 [3] |
C10G 73/28 | 用離心力 [3] |
C10G 73/30 | 用電之方法 [3] |
C10G 73/32 | 脫蠟時之冷卻方法 [3] |
C10G 73/34 | 控制或調節(一般的控制或調節見G05)[3] |
C10G 73/36 | 由其它含少量油之組合物、由濃縮物或由殘油內回收石油蠟;脫油;發油 [3] |
C10G 73/38 | 石油蠟之化學改性 [3] |
C10G 73/40 | 蠟或改性蠟之物理處理,如粒化、分散、乳化、光輻射 [3] |
C10G 73/42 | 石油蠟之精製 [3] |
C10G 73/44 | 於氫或產生氫之化合物之存在下 [3] |
C10G 75/00 | 烴類處理或轉化裝置之腐蝕或污染之一般抑制(7/10,9/16優先;保護管子免於腐蝕或水垢見F16L58/00)[6] |
C10G 75/02 | 利用防蝕劑之添加 [6] |
C10G 75/04 | 利用抗污劑之添加 [6] |
C10G 99/00 | 本次類其他目中不包含的技術主題 [8] |