IPC國際專利分類查詢
共12筆資料
| H | 電學 |
|---|---|
| H05 | 其他類目不包括的電氣技術 |
| H05H | 電漿技術（離子束管見H01J27/00；磁流體發電機見H02K44/08；包含發生電漿產生X射線見H05G2/00）；中子或加速的帶電粒子之產生（由放射線源內獲取中子者見G21，例如：G21B,C,G）；原子射束或中性分子之產生或加速（原子鐘見G04F5/14；受激發射裝置見H01S；通過與由分子、原子、或亞原子粒子之能級所確定的基準頻率相比較而進行頻率調整者見H03L7/26） |
| H05H 1/00 | 電漿之產生；電漿之控制（電漿技術在核融合反應器的應用見G21B 1/00） |
| H05H 3/00 | 中性粒子束，例如：分子束或原子束，之產生或加速 [3] |
| H05H 5/00 | 直流電壓加速器；應用單脈衝之加速器（3/06優先）[5] |
| H05H 6/00 | 用於產生核反應之靶（靶或被輻照目標物之支架見G21K5/08）[3] |
| H05H 7/00 | 9/00至13/00各目包括的各種裝置之零部件（用於產生核反應之靶見6/00）[3] |
| H05H 9/00 | 線性加速器（11/00優先） |
| H05H 11/00 | 磁感應加速器，例如電子磁感應加速器 |
| H05H 13/00 | 磁共振加速器；回旋加速器 |
| H05H 15/00 | 其他類目不包括而用於帶電粒子加速之方法或設備 [4] |